MESA/SC晶片清洗設備
發布時間：2020-10-05 作者：魯超超聲 點擊：111次
概述：
該設備用于晶片的清洗處理。該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性完全達到進口同類設備水平。
主要特點：
采用進口PP板制作。
適用MESA*SC晶片清洗。
超聲功率強勁，性能穩定。
采用進口超聲波電源。
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